作為半導體行業的關鍵設備之壹，光刻機在芯片制造中起著不可或缺的重要作用。最近，有了顯著的變化。中國已推出46款高端國產光刻機，標誌著中國在該領域取得了重要突破。
目前，華為已有46臺國產光刻機投入使用，使其芯片制造“完全獨立”。此舉不僅大大提升了華為芯片的質量和性能，也為公司在全球市場的競爭地位提供了有力支持。
46套國產光刻機的出現，標誌著我國半導體產業成功跨越了這壹技術壁壘。這些光刻機填補了中國高端光刻機領域的空白，不僅提升了中國的芯片制造能力，也提升了中國半導體產業的核心競爭力。
掩模對準器的作用
光刻機又稱掩模對準曝光機、曝光系統和光刻系統，是制造芯片的核心設備。光刻，也稱為光學光刻或紫外線光刻，是壹種在薄膜或襯底(也稱為“晶片”)上圖案化零件的精密加工工藝。光刻機，其實就是壹種通過類似於照片打印的技術，將圖紙上的零件打印到矽片上的機器。
簡單來說，光刻機就是利用壹系列光源能量和形狀控制手段，將光束通過帶有電路圖的掩膜板傳輸，通過物鏡補償各種光學誤差，將電路圖按比例縮小後映射到壹塊矽片上。不同光刻機的成像比例不同，從5:1到4:1不等。然後通過化學顯影得到刻在矽片上的電路圖(即芯片)。為了保證微納米尺度的加工，光刻機中的工作環境需要超凈環境。