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光學拋光的最大精度

光學拋光的高精度可達0.65438±0.2納米。

光學拋光的原理是通過磨具與玻璃之間的機械運動和化學作用,達到精密拋光的目的。經過數百位科學家的不懈探索,目前最高精度可達0.1至0.2納米。

光學拋光是壹種廣泛應用於高精度機械和光學元件制造過程中的制造技術。在這個過程中,需要最小的缺陷和平滑的微粗糙度值。