材料
石材拋光板
主要拋光材料有氧化鉻(Cr2O3)、白剛玉(M1.0)、氧化鋁(Al2O3)、草酸(COOH2)。
拋光磨石壹般有兩種:樹脂拋光塊；樹脂拋光盤。
產品的拋光:將拋光磨石放在加工好的產品上，利用機械設備的快速運轉和“幹拋濕拋”達到拋光效果。產品表面會出現強烈的反射光，俗稱光澤度。
原則
拋光的原理主要體現在兩個方面:顆粒研磨的原理；物理化學原理。
1.顆粒磨:磨料顆粒由粗磨到粗磨拋光時，磨料在石材表面的磨痕由粗到細，再到肉眼看不到痕跡，因此表面光滑、平整、細膩。當深度達到110微米時，加工表面呈現鏡面光澤，容光煥發，色澤鮮艷。
顆粒研磨包括以下步驟:
(1)粗磨:要求磨具進給量深，磨削效率高，磨削線粗，磨削面粗糙，主要是去除前道工序留下的鋸片痕跡，將產品的平整度和造型面磨削到位；
(2)半精磨:去除粗磨痕跡，形成新的細紋，產品加工表面光滑平整；
③細磨:細磨後，產品的花紋、顆粒、顏色已清晰顯示，表面細膩光滑，開始有微弱的光澤；
(4)精磨:加工後的產品無可見痕跡。表面越來越光滑，光澤度40~50度左右；
⑤拋光:表面光亮如鏡，有壹定的鏡面光澤(85度以上)。
2.物理化學原理:有兩種拋光工藝，即“幹拋光和濕拋光”。當拋光磨石處於“幹濕”之間時，石材制品會發生物理化學作用。當石材表面溫度升高時，水分會蒸發，導致拋光磨石的濃度增加，從而達到強化效果。產品光澤度開始達到理想要求，光澤度達到85度以上。
在加工好的產品上拋光磨石。當拋光後的產品變熱時，在表面加水冷卻。不允許連續或大量加水。否則水的潤滑作用會使拋光達不到理想的效果，幹法拋光完全不能使用。過高的溫度會灼傷表面，導致表面出現裂紋。
壹般來說，產品精磨後的光澤度在40~50左右，而有些石材精磨後達不到光澤度，如山西黑、黑金砂、濟寧黑等。，而這類產品經過細磨後的光澤度只有20~30度之間，不足以用之前的顆粒研磨原理來解釋。這款產品在拋光上是“幹濕兩用”的，在升溫降溫過程中強化了拋光過程。
3石材拋光設備石材專業拋光機
4影響石材拋光的幾個因素石材拋光的效果取決於兩個方面:壹是采用的拋光工藝是“後天”的人為外因；第二，結石本身有“先天”內因。
如果不考慮石材本身的內在因素，就拋光工藝而言，影響石材拋光的主要因素是拋光劑的種類、拋光液(膏)、拋光磨料、拋光盤(工具、磨塊)和拋光工藝參數。
(1)拋光劑的類型
拋光劑雖然是壹種特殊的拋光材料，但它與研磨材料的區別主要表現在加工機理上。原則上，壹些低硬度的微粉材料也可以用作拋光劑。但通常情況下，高硬度的拋光劑比低硬度的拋光劑好，適用範圍廣。金剛石拋光粉可以在大多數石材上達到滿意的拋光效果。
(2)拋光液(膏)
水是壹種常見的拋光液。它不僅可以起到研磨和冷卻的作用，還可以作為拋光過程中物理和化學作用的介質。
如果石材的拋光以機械研磨為主，如金剛石微粉，壹般用油基有機液體，如縫紉機油進行拋光。其冷卻、潤滑和分散效果極佳。
鉆石研磨膏，既有水也有油，還可以添加著色劑。其配方為:磨料+分散劑+載體+水+著色劑。
(3)、拋光盤(工具、研磨塊)
光面石材面板是石材表面打磨的壹種表現加工，金屬材質的硬盤常被用作拋光盤。軟盤拋光的拋光面在壓石時容易屈服為凹面，適用於弧面拋光。介質硬盤耐磨性好，吸附性好，有壹定的彈性，對平板石材拋光效果好。
(4)、拋光工藝參數
工藝參數包括拋光劑的濃度和供應、拋光過程中的壓力和線速度等。在小於某壹濃度值之前，拋光速度隨著拋光劑濃度的增加而增加。濃度值達到最大值後，如果再增加濃度，拋光速度會降低。同樣，拋光劑供給量在壹定值時，拋光速度最高，之後如果供給量繼續增加，拋光速度會降低。適當增加拋光壓力可以提高拋光速度，但壓力過高會加強研磨效果，不利於光滑表面的形成。拋光速度取決於拋光盤(工具)的轉速，但線速度過大，拋光劑會被甩出，造成浪費。
(5)前道工序的質量和石材表面的粗糙度。
如果考慮石材本身的內在因素，比如石材的礦物成分，主要表現在石材拋光的工藝特點上。
①不同礦物成分的石材有不同的拋光工藝特點。比如以蛇紋石礦物為主的石材，如大花、綠大理石等，屬於韌性較強的石材，可以打磨，但不容易打磨。
②大理石含有壹定量的土壤礦物質，也會影響石材的光澤度。典型的例子就是安徽的紅皖螺。這種巖石的名字叫層控生物灰巖。平行平面鋸出的板材是花形的生物花紋，更像貽貝，非常漂亮。但由於礦石中含有壹定量的粘土礦物，拋光後的板材很難達到85以上的光澤度。
(3)松散花崗巖，通常為雲長礦物，經過壹定程度的風化(粘質或水雲母)，其拋光效果難以達到新鮮花崗巖的拋光水平。這應該是石頭的品質。
④理論上不同的礦物要用不同的拋光劑。拋光是石材的精細加工技術，有人稱之為表面拋光技術。影響石材拋光的因素很多，包括拋光過程中的工藝條件和參數，拋光劑、輔助材料和拋光盤(工具和塊)的種類，石材的礦物成分和質量。